DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)無(wú)需制造掩膜，采用DMD數(shù)字掩膜,可在抗蝕劑內(nèi)曝光所希望的任意圖案。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)，除此之外DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)還可以讀取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)使用365nmLED光源，降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。采用10倍物鏡，一次曝光面積可達(dá)1mm´0.6mm，曝光時(shí)間僅需1s。結(jié)合電動(dòng)移動(dòng)平臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)曝光拼接，分辨率可達(dá)到3mm。可通過(guò)公司編寫(xiě)的軟件完成詳細(xì)設(shè)定，使操作簡(jiǎn)潔方便。

DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)與傳統(tǒng)的光刻機(jī)不同，AU-PALET光刻機(jī)采用DMD數(shù)字掩膜光刻技術(shù)，無(wú)需制造掩膜。大大降低了時(shí)間和成本。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何創(chuàng)建的CAD文件，直接進(jìn)行光刻。除了CAD文件，還可以讀取豐富的其它格式的數(shù)據(jù)，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。

AU-PALET DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)采用短波段的LED燈為光源，相對(duì)于其它的光源，擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命，降低價(jià)格的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光。AU-PALET 無(wú)掩膜光刻機(jī)為面曝光，采用10倍的物鏡，一次曝光面積可達(dá)到1mm´0.6mm，結(jié)合電動(dòng)平移臺(tái)可實(shí)現(xiàn)曝光拼接，可達(dá)到更大的曝光面積。可通過(guò)公司編寫(xiě)的軟件完成簡(jiǎn)單操作和詳細(xì)設(shè)定，操作簡(jiǎn)潔方便。

設(shè)備有限公司推出的DMD式無(wú)掩膜光刻機(jī)有兩種。

①  AU-PALET是一款快速光刻的無(wú)掩膜光刻機(jī)。本裝置采用375nm的LED光源，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的曝光，并且擁有更高的穩(wěn)定性和更長(zhǎng)的壽命。采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm，光刻分辨率達(dá)到5mm，并在10s 內(nèi)完成曝光。

②  

②AU-PALET­_new 是AU-PALET的升級(jí)版本，在光源上采用波長(zhǎng)更短的365nm的LED燈作為光源，采用10´的物鏡曝光面積達(dá)到1mm´0.6mm，光刻分辨率達(dá)到3mm，并在1s 內(nèi)完成曝光。

u  主要特點(diǎn)

• 高速度（1s）

• 廣范圍（1´0.6mm）

• 365nm LED光源

• 高分辨率 （3mm）

• 成本低

u  主要應(yīng)用

磁性薄膜等的任意形狀的圖案的形成

傳感器，半導(dǎo)體器件的制作

MEMS器件的試制、

光電子，LED的試制

微流體器件的試制

掩膜版制作

細(xì)胞分離通道等的制作

光波導(dǎo)路的制作

主要參數(shù)